徐州开发区多晶硅产业链继续攀高拉长

徐州经济技术开发区多晶硅产业链攀高拉长取得新成果，有协鑫集团投资的半导体级多晶硅和CVD法碳化硅沉积项目正在中能硅业有序实施，前者将一举突破中国半导体产业在原料端的短板，后者将填补国内在石墨碳化涂层领域的空白，都将全面打破国外企业的垄断格局，进一步巩固中能硅业作为全球最大多晶硅研发制造商的领先领跑地位。

据了解，协鑫集团联手国家集成电路产业投资基金会，共同进军半导体多晶硅产业。目前，首期年产5000吨半导体用电子级多晶硅项目的基础设施已全部完工，关键设备也已定制完成，预计今年年底可进行调试，预计2017年可给国内晶圆批量供货，2018年可覆盖国内所有半导体生产厂家。其中，首期年产5000吨半导体用电子级多晶硅中，安排生产国外对我国实施技术封锁的区熔级多晶硅1000吨。区熔级多晶硅主要应用在特高压、高铁变频、充电桩等高端电器上面，价格高出直拉电子级多晶硅3倍左右。该项目建成后，将突破中国半导体产业在原料端的短板，成为继美国Hemlock、德国Wacker之后世界第三的半导体级多晶硅新材料基地。

另据了解，CVD法碳化硅沉积项目是硅基材料的一个延伸，其产品碳化硅涂层具有熔点高、硬度大、强度高、耐腐蚀、抗氧化等特点，可广泛应用于化工、电子、航天、光伏、半导体等产业领域，建成后年产碳化硅涂层165炉。CVD法碳化硅沉积项目的建成投产，将打破国外企业对这一行业的垄断局面，填补国内在石墨碳化涂层材料的空白，进一步解决国内企业不断增长的实际需求，推动第三代半导体材料产业加快发展。